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薄膜用語集

あ行

アモルファス薄膜
結晶のように原子配列が規則的でなく、長距離にわたる秩序性をもっていない薄膜。
イオン注入
イオンを高エネルギーに加速して基板に打ち込むこと。基板の表面改質や不純物ドーピングなどに用いる。
イオンプレーティング法(IP)
真空蒸着法とスパッタリング法とを合わせたような方法。蒸発源から蒸発した原子(分子)が基板に到達する途中で、プラズマを利用してイオン化または励起させて基板上に薄膜を形成する方法。
インライン成膜装置
加熱室、成膜室、冷却室など複数のチャンバーをつなぎ合わせた通過型の成膜装置です。
安定した膜質と高い量産性を持つことが特長です。
ウェットコーティング
溶媒に溶解した物質を、ベースとなる基板にコーティングする技術です。乾燥や紫外線硬化により、被膜を作成する技術です。
液相成長法
液相から結晶を析出または成長させる方法。大きな結晶が得られるという特徴がある。
液相エピタキシー法(LPE法)
低融点の金属溶液に溶質としての半導体を飽和状態まで溶解させ、冷却させることによって過飽和になった半導体をエピタキシャル成長させる方法。
エッチング
基板上に形成された薄膜の全面または一部を除去すること。薄膜を溶解する作用のある溶液を用いておこなうウェットエッチングと、主にプラズマを用いるドライエッチングがある。
エピタキシャル成長
単結晶基板上に、ある決まった方位をもった結晶を成長させる方法。
応力(膜の残留応力)
外部から加えられた力学的負荷が取り除かれた後、あるいは不均一な温度分布が均一もしくは初期と異なった定常状態になったときに、物体内に残留する応力を残留応力といいます。薄膜の分野では、この残留応力を打ち消すように研磨(平坦度の調整)を行うことがあります。
押込み硬度
試料表面に先端の鋭い錐(圧子)や球などに荷重を加えて押し込み、生じたくぼみ(圧痕、押込みくぼみ)の大きさから硬度を評価する。対面角136°の四角錐のダイヤモンド圧子を用いて、圧痕の対角線の長さから求めた圧痕の表面積から求めた硬度をビッカース硬度という。
オゾン洗浄
基板表面にオゾンを照射し、基板表面に付着した有機物系の汚れを除去する方法。
オージェ電子分光法/AES(Auger electron spectroscopy)
試料表面に電子線を照射したときに、試料から発生するオージェ電子を検出することで、試料の組成分析をおこなう。
Å(オングストローム)
長さを現す単位で、SI(国際単位系)に換算すると1Åは、10^−10m = 0.1ナノメートル(nm)と定義されます。原子や分子の大きさ、可視光の波長など、非常に小さな長さを表すのに広く使われています。

か行

化学気相成長法(CVD法)
薄膜の原料となるガスを基板表面に供給し、化学反応により薄膜を形成する方法。半導体、金属、セラミックス、有機高分子など形成に広く使われている。
化学めっき
外部から電気エネルギーを供給しないで、酸化還元反応または置換反応を利用して金属塩水溶液中の金属を析出させる方法。
■関連用語
無電解めっき
加飾・意匠コーティング
これまで塗装では実現できなかった高級感あふれるメタリック調やグラデーション、見る角度が変わることにより色が変化して見える加工など、ジオマテックの加工技術が新しい装飾膜を可能にしました。
気相成長(CVD)法
目的とする薄膜の成分を含む原料ガスを供給し、化学反応により基板に膜を堆積させる方法です。成膜速度が速く、処理面積も大きいことが特長です。
機能性薄膜
ガラスやプラスチック、金属などに被膜することで、製品の機能や操作性、快適性などを高められる薄膜です。指紋の付着などを防ぐ防汚膜、反射を低減する反射防止膜、照明の明るさや色合いを変化させるフィルターなどがあります。
基板材料(真空成膜)
被膜の対象となる物質(ガラス、樹脂、金属など)。
基板の前処理
成膜前の基板材料を成膜可能な状態にする工程のことで、表面の汚れを落とす洗浄のほか、表面状態を改質する熱処理(アニール)などがあります。
屈折率
真空中の光の速度cと媒質中の光の速度vとの比c/v。nで表す。吸収のある媒質では複素屈折率n-ikで表され、このときのkを消衰係数という。透明な媒質ではk=0である。
クリアヒート
窓割れ防止対策として使用されてきたポリカーボネート樹脂窓に対し、さらに融雪・結露防止能力を付加しました。クリアヒートは東邦シートフレーム株式会社との共同開発品です。
蛍光X線分析法/XRF(X-ray fluorescence analysis)
試料にX線を照射して試料中の原子の内殻電子を励起し、より外殻の電子が内殻空孔へ遷移する際に放出される蛍光X線を分光して元素分析をおこなう方法。
ゲート絶縁膜
電界効果トランジスタ(FET)やサイリスタなどのゲートの下にある絶縁膜。
光学多層膜
金属薄膜・半導体薄膜・誘電体薄膜を組み合わせて積層させたもの。各種ミラー・フィルターに利用される。
高精細
ディスプレイの画素密度(ppi)の高さを表す言葉で、高精細(高画素密度)ディスプレイでは、視認することができないほど構成する画素が小さい為、画像は鮮明に、文字も滑らかに表示されます。

さ行

三次元成長
薄膜の成長様式の一つ。基板に到達した薄膜物質は、基板表面上で三次元的な核を形成し、核が成長して島になる(不連続膜)。島と島が合体(コアレッセンス)を繰り返し、連続膜となる。
色素増感型太陽電池用ITO膜
色素増感型太陽電池には、耐熱性の高いITO膜が要求されています。ジオマテックの高耐久性透明導電膜は、大気中で500℃以上に熱しても抵抗値変化がないITO膜を提供しております。抵抗値、透過率、基板材質、サイズなどの特性や基板仕様を選択可能で、必要に応じて反射防止コート、緻密なTiO2膜の形成、グリッド電極の形成も可能です。
シート抵抗(表面抵抗率・面抵抗率)
表面抵抗率、面抵抗率ともいう。一様の厚さのある正方形の薄膜の電気抵抗を表すもの。薄膜の比抵抗をρ、厚さをdとすると、シート抵抗=ρ/dである。単位はΩ/sqあるいはΩ/□(オームパースクエアと読む)で表す。
シリサイド薄膜
金属元素とシリコン(Si)の化合物薄膜。真空蒸着法、スパッタリング法などにより、半導体基板上や絶縁膜上に作製する。
集束イオンビーム
イオンを加速して細く絞ったビーム。ドーピングやエッチングなどの加工や、透過型電子顕微鏡観察用の試料作製などに用いられる。
触針法
先端の曲率半径が数μmのダイヤモンド製針を測定表面に接触させて走査し、針の上下の動きを検出して表面の粗さや膜厚を求める方法。
真空蒸着法
真空中で蒸発源から薄膜にしたい物質を加熱蒸発させ、それを基板上に堆積させて薄膜を形成する方法。
真空
通常の大気圧より低い圧力の気体で満たされた空間の状態。
スクラブ洗浄
基板表面を、回転するブラシで中性洗剤や純水などを吹き付けながらこすり洗いする方法。
ストランスキー-クラスタノフの成長様式
薄膜の成長様式の一つ。基板表面上で、はじめは層状に成長し、その上に三次元的な核を形成し成長する。
スパッタリング法
加速された粒子がターゲット表面へ衝突したとき、ターゲットを構成する原子が空間へ放出される現象を用いて薄膜を形成する方法。
■関連用語
スパッタ成膜
成膜材料
金属や金属酸化物、あるいは複数のものを重ね合わせて成膜することができます。<基板と金属の相性>詳しくは成膜物質ページをご参照ください。
走査型電子顕微鏡/SEM(scaning electron microscope)
試料表面に細く絞った電子線をX-Y方向に照射したときに、試料から発生する二次電子や反射電子を検出することで、試料表面の形態・微細構造観察をおこなう。
走査型透過電子顕微鏡/STEM(scaning transmission electron microscope)
薄片化した試料に細く絞った電子線をX-Y方向に照射したときに、試料を透過した電子を検出することで、試料内部の組織・微細構造観察をおこなう。
走査型プローブ顕微鏡/SPM(scaning probe microscope)
試料表面をプローブ(微小な探針)で試料をなぞり、プローブ先端と試料表面の相互作用により、試料の形状や性質を観察する顕微鏡の総称。走査型トンネル顕微鏡(STM)、原子間力顕微鏡(AFM)、摩擦力顕微鏡(FFM)、磁気力顕微鏡(MFM)などがある。
層状成長
薄膜の成長様式の一つ。基板に到達した薄膜物質が、基板表面上で二次元的な核を形成し、それを中心にして層状に成長する。
その場(in-situ)観察
薄膜の成長、結晶成長、固体試料の表面状態の変化などを、装置の外に取り出さずに「その場」で観察すること。
ゾルゲル法
ゾルは、溶液中に固体微粒子が分散した状態。ゲルは、ゾルが流動性を失ってゼリー状となった状態。ゾルゲル法は、ゾルからゲルへ状態が変化することを利用して薄膜を作製する方法。金属アルコキシドを原料としたガラスやセラミックス薄膜が作製されている。

た行

ダイクロイックミラー・フィルター
光学多層膜の一種で、特定の波長や偏光成分を反射や透過又は分離や合成を行う光学薄膜製品です。液晶プロジェクターや光ピックアップ用途として、高透過率・高反射率・優れた角度依存性を実現しております。
多結晶膜
さまざまな大きさ・結晶方位をもつ結晶粒が集まって形成されている結晶性薄膜。
タッチパネル(静電容量式)用透明導電膜
静電容量式タッチパネルに用いられる透明導電膜は、低比抵抗やエッチング性、信頼性が求められます。ジオマテックでは、光学設計技術を駆使しITOパターン見えに対応、投影型、表面型にも対応可能です。ガラス・フィルムのどちらでも成膜可能です。
タッチパネル(抵抗膜式)用透明導電膜
抵抗膜式タッチパネルに用いられる透明導電膜は、画像の品質や映り込みなど、タッチパネルの構成・機能を左右する重要な役割を果たします。ジオマテックでは、パネルのタッチ機能向上・長寿命・高透過率に対応した透明導電膜を作成・提供しています。
ターゲット(スパッタリング法)
スパッタリング法における成膜材料のことを、ターゲットと言います。ターゲットはアルミや銅といった単金属・合金だけでなく、TiO2、MgO、Al2O3、Nb2O5などの酸化物、TiCやSiCなどの炭化物など幅広いものが使用されています。
単結晶膜
全体が同一の結晶方位をもつ単相の結晶性薄膜。
チャンバー(chamber)
部屋、容器などの意味。真空にしたチャンバーの内部で成膜をおこないます。
柱状構造
基板上に柱が立っているような薄膜の構造。PVD法で形成した薄膜は柱状構造になることがある。
超音波洗浄
液体媒質中を伝搬する超音波の空洞現象(キャビテーション効果)により発生した気泡の機械的な力、および媒質である洗浄液の物理的・化学的反応を促進する効果により、基板表面に付着した汚れを除去する方法。
抵抗加熱蒸着
真空蒸着において、蒸着材料を載せた高融点の金属抵抗体を通電加熱して、蒸着材料を溶融・蒸発させる方法。
デフロスター
デフロスターとは、着霜・着氷・結露を防止するための装置です。ジオマテックのデフロスター/透明ヒーターは、透明でありながら電気を通す「透明導電膜」を用いており、発熱させたい面全体を暖める製品です。ガラスや樹脂など基板の種類を問わず、また曲面への加工も実施しております。
テープテスト
粘着テープを薄膜表面によく貼り付けた後にテープをはがし、膜にはく離が発生しているかどうかを調べる方法。付着力の評価方法として使われる。
電子線回折法
電子線を結晶性試料に照射したときに得られる、結晶に特有な回折パターンから、結晶の構造解析をおこなう方法。透過電子回折法(TED)、反射高速電子回折法(RHEED)、低速電子回折法(LEED)などがある。
電子線マイクロアナライザ/EPMA(electron probe micro analyzer)
試料表面に細く絞った電子線をプローブとして照射したときに、試料から発生する特性X線を検出することで、試料の組成分析をおこなう。定性分析、定量分析、線分席(ライン分析)、面分析(マッピング)などができる。
電子ビーム蒸着
真空蒸着やイオンプレーティングにおいて、電子銃から電子ビームを蒸着材料に照射して溶融・昇華させる方法。
透過率
物質層または境界面を光が透過するとき、入射光の強度に対する透過光の強度の比をいい、通常%で表す。
透過型電子顕微鏡/TEM(transmission electron microscope)
薄片化した試料に照射レンズで電子線を平行照射し、対物レンズ、中間レンズ、投影レンズで結像させて観察する。
透明導電膜
可視光を透過し、かつ高い電気伝導性がある薄膜。スズをドープした酸化インジウム(ITO)膜、酸化スズ(SnO2)膜、酸化亜鉛(ZnO)膜などが代表例である。
透明導電性酸化物/TCO(transparent conductive oxide)
可視光を透過し、かつ高い電気伝導性がある酸化物。TCO(transparent conductive oxide)
ドライコーティング
ドライプロセスにおける薄膜の形成を、ドライコーティングと呼んでいます。真空中で基板材料の表面に金属などを被膜する加工技術で、真空法によるコーティングと言えます。ドライコーティングは大きな分類で真空蒸着法とスパッタリング法があります。
トライボロジー
潤滑、摩擦、摩耗など、相対運動しながら互いに力を及ぼしあう2面間におこるすべての諸問題を対象とした科学と技術。

な行

内部応力
薄膜の成長過程や構造変化などに伴って発生したひずみによる応力、薄膜と基板との熱膨張係数の差による熱応力がある。薄膜の応力により基板が変形するが、薄膜を内側にして変形する場合(引張り応力)と、薄膜側を外にして曲がる場合(圧縮応力)がある。
nm(ナノメートル)
長さを現す国際単位系(SI) 10^-9メートル(m)=10億分の1メートル。
二次イオン質量分析法/SIMS(secondary ion mass spectrometry)
試料表面に高エネルギーのイオンビームを照射したときに、試料から放出される二次イオンの質量分析をすることで、試料表面の組成分析をおこなう。
入射角
光が媒質の境界面に入射するとき、入射光が境界面の法線となす角度。
熱CVD法
化学反応を熱エネルギーでおこなわせるCVD法。

は行

金属をごく薄く打ち延ばしたもので、金箔・銀箔・錫箔などがあります。
薄膜
ジオマテックで扱う薄膜には、固体である、基板上に作製される、厚さが数nm(数十Å)~数μm程度である、などの特徴がある。コーティング、層など同じ意味で使われることもある。
■関連用語
コーティング、層
薄膜強度を上げる
薄膜の強度を上げるには、以下の3つの方法があります。
  • 1.薄膜生成時の基板温度を上げる
    薄膜精製時に、ある一定温度を超えることによって、薄膜の強度が飛躍的に上昇します。この温度は、成膜物質の融点などによって変化しますが、温度が上昇することによって、基板に到達した原子が基板上を拡散し、膜のすき間を埋め、高密度な薄膜を形成することになるからです。
  • 2.ボンバード効果やイオンアシストを併用する
    基板をプラズマ中に曝すことによって、基板表面が浄化され、又表面温度が上昇しますので、強度の高い膜が形成されます。
  • 3.コンタクトメタルを組み入れる
    基板と膜の密着が悪い(相性が悪い)場合、中間に基板、膜それぞれと相性の良い薄膜を組み入れることで、強度の高い膜を得ることができます。
薄膜熱電対
熱電対とは金属に温度差があると起電力が発生する現象(ゼーベック効果)を利用した温度センサーで,二種類の金属線を使っています。この金属線を薄膜にしたものが薄膜熱電対です。
反射型天体望遠鏡
天体望遠鏡には、高い精度で研磨・成膜された金属反射膜付き凹面鏡が使用されています。レンズを用いないことや大口径の望遠鏡が作れることから、色収差のない明るい画像を得ることができます。ジオマテックでは、今お使いの天体望遠鏡に使用されている主鏡、副鏡の再成膜(再加工)を承っております。
反射鏡-Al反射鏡
Al膜に保護膜(SiOまたはMgF2)をオーバーコートすることで、耐久性・耐候性がアップします。通常のAl反射鏡は約90%の反射率を持ちますが、誘電体膜を積層したアルミ増反射(反射率94%以上/ピーク値)や超高反射(反射率97%以上/ピーク値)などがあります。
反射防止膜
反射防止膜とは、基板の反射率を抑えるように設計・加工された光学多層膜の一種です。
基板の屈折率から、目的とする波長帯・透過率が得られるように光学設計を行い、低屈折率から高屈折率までの誘電体を組み合わせて作成します。
反射膜
反射膜は金属膜によるものと、誘電体膜によるものの大きく2つに分類することができます。角度依存性の少ない金属膜、波長選択性が高い誘電体膜と、ニーズにより使い分けられています。
反射膜-金属反射膜
金属反射鏡は、入射角が変化しても反射率がほとんど変わらないという特徴を持っています。
表面鏡のため、高い反射率とゴーストの発生のない、信頼性の高い像を得ることができます。
反射膜-誘電体膜
緻密な光学設計を行い、屈折率の異なる誘電体薄膜を積層させることによって、必要とする波長帯を反射させることができます。又、反射域、透過域などの設定や、単一波長のみの反射や透過も可能です。光の散乱や吸収、損失を極めて低く抑えることができるため、高い反射率、高い透過率を得ることができます。
反射率
境界面で光が反射するとき、入射光の強度に対する反射光の強度の比をいい、通常%で表す。
光CVD法
紫外線や赤外線など光のエネルギーによって反応ガスを分解し、反応を促進させておこなうCVD法。
比抵抗(抵抗率・電気抵抗率)
抵抗率、電気抵抗率、体積抵抗率ともいう。一様な導線の電気抵抗Rは導線の長さlに比例し、断面積Sに反比例し、比例定数をρとして次のように表せる。R=ρ(l/S) この比例定数ρを比抵抗と呼ぶ。比抵抗の単位はΩ・mやΩ・cmなどがよく使われる。
ファンダメンタルパラメーター法/FP(fundamental parameter )法
蛍光X線分析法では、試料の組成、試料が薄膜の場合は膜構成、元素の物理定数、測定条件などのファンダメンタルパラメーターがわかれば、蛍光X線の強度を理論的に計算することができる。このことを利用して、未知試料を測定して得られた各元素の蛍光X線強度から、未知試料の組成を計算する方法。
フォトエッチング
エッチングに精密な写真技術・精密画像技術を展開させた精密加工技術です。高精度のフォトマスクを使用するため、エレクトロニクス製品などにおける極小部品・極薄製品などに最適な加工法です。
付着力
薄膜と基板とのくっつきの強さ。一般的には、薄膜を基板からはがす際に要する力を目安とする。付着力の評価方法としては、テープテストが実用的である。
物理蒸着法(PVD法)
物理気相成長ともいう。真空中において加熱、スパッタリングなどの物理的方法で物質を蒸発し、基版に堆積させる薄膜形成法。
プラズマ加工
プラズマを用いて表面改質、溶接、焼結、溶射、エッチング、切断、薄膜形成などの加工をおこなうこと。
プラズマCVD法
容器に反応ガスを導入し、減圧下で高周波電界を与えてプラズマ状態にし、活性なラジカルやイオンを生成させて化学反応をおこなわせ、薄膜を形成する方法。
フーリエ変換赤外分光法/FT-IR(Fourier transform infrared spectroscopy)
試料に赤外光を照射し、透過または反射赤外線吸収スペクトルを測定することで、試料の構造解析や定量をおこなう手法。顕微鏡と組み合わせることにより、数十μm角程度の領域を測定することができる。
分子線エピタキシー法(MBE法)
超高真空中で、成長させたい結晶の構成元素を、分子線(あるいは原子線)として加熱した基板表面に入射させることにより、エピタキシャル成長させる方法。
偏光解析法(エリプソメトリ)
光を試料に斜入射し、試料表面で光が反射する際の偏光状態の変化を計測し、試料の光学定数や膜厚などを解析する方法。

ま行

µm(マイクロメートル)
長さを現す国際単位系(SI)  
10^-6メートル(m)=100万分の1メートル。
膜厚
薄膜の厚さ。触針法で測定した幾何学的膜厚(基板面と薄膜表面との距離)が多く使われる。
めっき膜
物質(製品)を錆やキズ・摩耗から防ぐため、あるいは外観を美しくするために被膜したものをめっき膜といいます。従来のめっき(ウェットコーティング)のほか、真空成膜(ドライコーティング)などがあります。

や行

有機EL
有機エレクトロルミネッセンス
特定の有機物に電圧をかけると発光する物理現象をいいます。
誘電体
金属酸化物やフッ化物で高い誘電率を有し、薄膜の分野では光学コーティングなどに用いられる材料をいう。
誘電体多層膜
屈折率の異なる複数の誘電体薄膜を積層させたもの。反射防止膜、ダイクロイックフィルターなどに利用される。
四探針法
金属薄膜や半導体薄膜の電気抵抗率測定方法。薄膜の表面に等間隔に並んだ4本の探針を押しつけ、外側の2本の探針間に電流を流し、内側の2本の探針間で電圧を測定する。

ら行

ラザフォード後方散乱分光法/RBS(Rutherford backscattering spectrometry)
試料にイオンビームを照射し、ある散乱角で後方散乱(ラザフォード散乱)されてくるイオンのエネルギーを測定して、試料の組成、構造を解析する手法。深さ方向の組成分析が非破壊でできる。
ラングミュア・ブロジット法(LB法、単分子累積法)
水面上に有機分子の単分子膜を形成し、それを固体基板上に次々と移し取って累積して薄膜を形成する方法。膜厚が均一である、ピンホールが少ないなどの特徴がある。
リソグラフィ
半導体素子を作るために、露光転写した画像をもとにして微細な形状を加工する技術。フォトリソグラフィ、電子線リソグラフィ、イオンビームリソグラフィ、X線リソグラフィなどがある。
レジスト
光や電子線を照射することで現像液に対して可溶、不溶または難溶となり、マスクパターンを形成する材料。照射された部分が現像液に対して可溶となるタイプをポジ型レジスト、不溶となるタイプをネガ型レジストという。
レーザアブレーション法
集光したレーザー光を真空中のターゲットに照射し、ターゲット表面の粒子を放出させ(アブレーション)、放出された粒子を基板上に堆積させて薄膜を形成する方法。
■関連用語
レーザー蒸着法
レーザー加工
レーザーを用いて穴あけ、溶接、熱処理、切断などの加工をおこなうこと。
レーザーラマン分光法
試料にレーザー光を照射すると、その一部は散乱される。散乱光には入射した光と同じ波長の光が散乱されるレイリー散乱と、入射光とは異なる波長が散乱されるラマン散乱がある。ラマン散乱光を分光してラマンスペクトルを検出し、物質の同定をしたり試料の結晶構造に関する情報を得る。

F

FLAT-ITO膜
ジオマテックでは、ITO膜の配向を制御することにより、物理的研磨同様の平坦性を持つITO膜を実現しました。研磨工程が不要になったことで、研磨時の残渣物やキズに対しての懸念が無く、クリーンなITO膜を得ることができます。また、ドメイン構造が均質なので、綺麗なパターニングエッジを得ることができます。膜応力も小さく、基板へのストレスを低減できます。
fθレンズ
fθレンズは、YAGレーザー加工機によるマーキング、穴開け、切断時に使用されます。ジオマテックが開発したfθレンズは、走査エリア内での収差を回折限界まで追求。微細加工をはじめ、広域加工等、最適加工条件にあったビット径を提供する非常にコンパクトで高性能なfθレンズです。

I

ITO代替ZnO
FPDに使用されるITO膜にはIn(インジウム)が含まれています。急激なFPDの生産増加によりやInの価格高騰により、ITOターゲット材のリサイクルが急速に進んでいます。今後新興国でのテレビ需要が見込まれている中、依然として中国などからの輸入も多く、供給面の不安は相当なものがあります。ジオマテックでは、透明電極としての性能が優れている酸化亜鉛(ZnO)に着目し、研究・開発を続けています。

N

NDフィルター
NDフィルターとは、金属を薄く加工したもので、波長選択性がありません。各種測定機器、照明等さまざまな機器に使用されています。

M

MOCVD法
有機金属化合物を原料ガスとして熱分解反応により薄膜を形成するCVD法。
MOMBE
MBEで、成長させたい結晶の構成元素の原料として有機金属化合物(MO)ガスを用いる方法。

X

X線光電子分光法/XPS(X-ray photoelectron spectroscopy)/ESCA(electron spectroscopy for chemical analysis)
超高真空下に置かれた試料表面にX線を照射し、光電効果により放出される電子の運動エネルギーを測定することで、試料表面の組成、量、化学状態に関する情報を得る手法。
X線回折/XRD(X-ray diffraction)
X線を結晶性試料に照射したときに得られる、結晶に特有な回折パターンから、結晶の構造解析をおこなう方法。また、格子面間隔を測定し、そのひずみから試料に存在する応力を評価できる。

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